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半導體超純水鈉離子檢測儀選型攻略：SEMI F63與國標限值全解析


2026.02.06　瀏覽量：18 次
在12英寸晶圓制造的500+道關鍵工藝中，超純水的純度直接決定芯片良率與可靠性。某晶圓廠實測數據顯示，當超純水中鈉離子濃度從0.5μg/L升至2μg/L時，3nm制程芯片漏電率上升37%，月均損失超500萬元。超純水鈉離子檢測儀作為水質管控的核心工具，已成為半導體工廠的標配設備。
 

半導體超純水鈉離子檢測儀選型攻略：SEMI F63與國標限值全解析


行業標準下的鈉離子限值要求

 

不同半導體制程對超純水鈉離子濃度的要求差異顯著，國際與國內主流標準具體要求如下：

 

標準編號 適用場景 鈉離子限值要求
SEMI F63-0308 3nm以下先進制程 ≤0.1μg/L
GB/T 11446.1-2013 EW-Ⅰ 12英寸及以上集成電路制造 ≤0.5μg/L

 

SEMI F63標準更側重前沿制程需求，而GB/T 11446.1-2013的EW-Ⅰ級指標已基本滿足國內主流晶圓廠的技術要求。采用符合國標要求的超純水系統，可使90nm制程的芯片良率穩定在92%以上。

 

鈉離子主流檢測技術對比

 

目前半導體行業主流的鈉離子檢測方法主要有三類：
  • 離子色譜法：前處理復雜，檢測周期長達30分鐘/樣，難以滿足實時監測需求
  • 原子吸收光譜法：檢出限可達0.05μg/L，但設備成本高且需專業操作人員，適用于實驗室離線校準
  • 離子選擇性電極法：響應時間≤2分鐘，測量范圍覆蓋0.01μg/L~23g/L，成為半導體工廠在線監測的首選技術

 

精準檢測方案

 

針對半導體行業對超純水鈉離子檢測的嚴苛要求，贏潤環保推出兩款專業檢測設備，全面覆蓋實驗室校準與工業在線監測場景。

 

臺式鈉度計ERUN-ST3-M6采用高精度鈉復合電極，測量范圍0.00～9.36 pNa（0.01μg/L～23.0g/L），電子單元示值誤差±0.01 pNa，支持10年以上數據循環存儲與兩點自動校準，完全符合SEMI F63和GB/T 11446.1-2013的檢測要求。某14nm制程晶圓廠應用表明，該儀器連續運行3000小時后，測量偏差仍控制在±0.03 pNa范圍內，穩定性較同類產品提升40%。
臺式鈉度計ERUN-ST3-M6
水質鈉離子在線分析儀ERUN-SZ3-M6采用雙量程設計（0-200μg/L痕量監測+0-10mg/L工業檢測），精度±0.5μg/L，支持4-20mA/RS485數據傳輸，可接入DCS系統實現遠程監控。設備具備自動堿化功能，能有效消除pH值對檢測結果的干擾，適合半導體潔凈室24小時連續監測需求。

水質鈉離子在線分析儀ERUN-SZ3-M6

精準的鈉離子檢測是半導體工藝控制的最后一道防線，贏潤環保的專業檢測設備通過高精度測量與智能化設計，為超純水質量管控提供可靠保障，助力芯片制造企業降低生產損耗，提升產品良率。